公司簡介

公司簡介

創新研發

亮傑科技有鑒於長期投入先進製程、新材料及先進設備的研發,乃是製程設備業長保競爭力的主要因素,因應市場需求,架設完成之各類型製程設備包括:

.超高真空磁控濺鍍設備(UHV Sputtering System)
.連續式真空磁控濺鍍設備(In-Line Sputtering System)
.電子束蒸鍍設備(E-Beam Deposition System)
.離子濺鍍設備(Ion Beam Sputtering System)
.熱蒸鍍系統(Thermal Evaporation System)
.PLD雷射鍍膜系統(Pulsed Laser Deposition System)
.電漿輔助氣相沉積設備等(PECVD)


各式超高真空用之關鍵性零組件研發則包括:線性傳輸棒,旋轉軸,磁控濺鍍靶,超高真空腔體及各種真空系統之應用儀器。同時就近與工研院、精儀中心、同步輻射中心、交大、清大等科技單位建立合作共同開發關係,以協助學界及研發單位完成先進製程開發研究,並提供給產業界生產製造之所需。